HeyJaredEUV im Fokus
EUV The Focal Point ist dein Podcast rund um Extreme-Ultraviolett-(EUV-)Lithografie.Industry Briefings:Behandeln Technologieknoten, DRAM, HBM und strategische Entwicklungen von ASML & Co.
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- Sep 21, 2026
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- Jul 6, 2026
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[064] Industrie Briefing - EUV im Fokus (opens the original)
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Dieser Beitrag wurde mit KI erstellt. Bitte überprüfen Sie die Informationen, wenn Sie sie als Grundlage für Entscheidungen verwenden möchten. Die nächste EUV-Herausforderung für ASML ist zunehmend industrieller statt optischer Natur: Die gemeldete Produktionskapazität für 2028 könnte mehr als 110 Systeme erreichen, während das Unternehmen offenbar an seiner bestehenden lasererzeugten Plasmaquelle festhält, statt auf Freie-Elektronen-Laser umzusteigen. Gleichzeitig prüft SK hynix Optionen für ei
[063] Industrie Briefing - EUV im Fokus (opens the original)
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Dieser Beitrag wurde mit KI erstellt. Bitte überprüfen Sie die Informationen, wenn Sie sie als Grundlage für Entscheidungen verwenden möchten. Für die Einführung von High-NA EUV gibt es jetzt klarere Zeitmarken: TSMC will 2030 in die Volumenfertigung einsteigen, während Samsung 2028 auf fortschrittliche DRAM-Produktion abzielt. Intels neue Angabe von mehr als einer Million Wafern und imecs Ergebnisse mit chemisch verstärkten Resists zeigen, dass es in der nächsten Phase zunehmend darum geht, Kos
[062] Industrie Briefing - EUV im Fokus (opens the original)
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Dieser Beitrag wurde mit KI erstellt. Bitte überprüfen Sie die Informationen, wenn Sie sie als Grundlage für Entscheidungen verwenden möchten. TSMC sagt, dass sein geschätzter Anlagenbedarf für 2026 auf etwa das 1,9-Fache des Ende 2025 prognostizierten Niveaus gestiegen ist. Das zeigt, wie schnell sich die KI-Nachfrage in Fab-Investitionen übersetzt. Diese Woche gibt es außerdem neue Signale zum Ausbau des ASML-Supports in Japan, zu Halbleitermaterial-Kapazitäten in Taiwan, zum Arbeitskampfrisik
[061] Deep Dive Topic - Jenseits von Watt: Was den produktiven EUV-Output wirklich bestimmt (opens the original)
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Dieser Beitrag wurde mithilfe von KI erstellt. Bitte überprüfen Sie die Informationen, wenn Sie sie als Grundlage für Entscheidungen verwenden möchten. Jenseits von Watt: Was den produktiven EUV-Output wirklich bestimmt EPISODEN-TEASER Bei der EUV-Lithografie dominierte lange eine Frage: Kann die Source genügend 13,5-Nanometer-Licht erzeugen, um wirtschaftlichen Wafer-Durchsatz zu ermöglichen? Im Jahr 2026 ist das nicht mehr das gesamte Optimierungsproblem. Diese Episode erklärt, warum der reale
[060] Industrie Briefing - EUV im Fokus (opens the original)
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Dieser Beitrag wurde mit KI erstellt. Bitte prüfen Sie die Informationen, wenn Sie sie als Grundlage für Entscheidungen verwenden möchten. Diese Woche gibt es nur wenige neue Meldungen zu EUV-Scannern, dafür aber viel Stoff zu den wirtschaftlichen Grundlagen der Halbleiterindustrie. NVIDIAs Nachfrage, SK hynix’ US-Investition in HBM, die Speicher-Offenlegungen auf der Hot Chips und Intels Abwägung zwischen 18A-P und einer möglichen TSMC-Fertigung zeigen, dass Auslastung, Waferintensität, Packagi
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